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ICP、ICP-MS幾乎可以有效的分析所有元素，因此被廣泛的使用于半導體產(chǎn)業(yè)、核工領域，以及環(huán)境樣品的元素分析。尤其是ICP-MS，由于可以進行極微量的金屬分析，因此所使用的超純水，其金屬是要去除到極限的。超純水系統(tǒng)的純化方法中，用來去除離子的是離子交換樹脂，因此維持樹脂的交換能力是很重要的。離子交換樹脂除了會因為官能基飽和而降低去除能力外，樹脂表面也會發(fā)生有機物質(zhì)與微生物的附著，所以在離子交換樹脂的前段處理程序中，使用紫外線燈來氧化分解有機物質(zhì)，以防止樹脂被污染。此外，為了...
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HPLC經(jīng)常使用于各種有機物質(zhì)分析，與質(zhì)譜儀組合為LC/MS，可進行極微量的分析。超純水使用于移動相製備、標準液調(diào)配及作為空白實驗。實驗用超純水中的有機物會造成背景值與雜訊的發(fā)生，使分析結果受到干擾。以HPLC（以UV檢測）對不同超純水的有機物含量進行檢測時，結果顯示，有機物的含量與吸收背景值具正相關的關係（圖１）。此時，可以使用紫外線燈（波長185nm）照射來降低有機物含量，被氧化分解的有機物則以離子的形態(tài)存在于水中，可以在后續(xù)的純化程序中使用離子交換樹脂來加以去除（圖２）...
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在現(xiàn)代化電子行業(yè)生產(chǎn)中，集成電路zui明顯的特征就是:產(chǎn)品的體積,在不斷的縮小.這一變化使得生產(chǎn)過程中超純水的水質(zhì)要求也愈來愈高,對純水器等設備的要求也就越來越嚴格。特別是在電子工廠,潔凈廠房設計中純水供應是重要內(nèi)容之一，各種電子產(chǎn)品生產(chǎn)工藝對純水水質(zhì)、水量要求均不相同。在電子物品生產(chǎn)中,超純水系統(tǒng)應根據(jù)原水水質(zhì)和產(chǎn)品生產(chǎn)工藝對水質(zhì)的要求，結合系統(tǒng)規(guī)模、材料及設備供應等情況，通過技術經(jīng)濟比較來選擇。純水系統(tǒng)的原水水質(zhì)因各地區(qū)、城市的水源不同相差很大，有的城市以河水為水源，即使...
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*,超純水中雜質(zhì)會對器件帶來一系列的不利影響!所以,如何確定超純水系統(tǒng)流程以保證生產(chǎn)設備對超純水水質(zhì)的要求就成為超純水系統(tǒng)所要解決的首要問題。集成電路工廠的純水制備系統(tǒng)應根據(jù)原水水質(zhì)及工藝生產(chǎn)設備要求的超純水水質(zhì)來確定，一般由下列4部分組成：預處理系統(tǒng)、一次純水處理系統(tǒng)、超純水制取系統(tǒng)、回收水系統(tǒng)預處理的目的是去除水中所含的懸浮物、膠體、高分子有機物等雜質(zhì)。需要指出的是，活性炭對去除TOC有非常好的效果，但它也往往成為微生物的滋生地。因此，在預處理系統(tǒng)中采用活性炭處理單元時，...
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現(xiàn)在制備純水和超純水zui穩(wěn)定zui方便的方法,就是通過純水與超純水系統(tǒng)。打世界上*臺超純水系統(tǒng)問世到現(xiàn)在，超純水系統(tǒng)的設計生產(chǎn)理念就一直圍繞著“*水質(zhì)，zui穩(wěn)水質(zhì)”來不斷完善。一、*水質(zhì)1．天然水中常見雜質(zhì)包括可溶性無機物、有機物、顆粒物、微生物、可溶性氣體等。純水/超純水系統(tǒng)就是要盡可能*地去處這些雜質(zhì)。2．凈化水質(zhì)的主要工藝目前常用凈化水質(zhì)的工藝方法有蒸餾法、反滲透法、離子交換法、過濾法、吸附法、紫外氧化法等。同時我們可以將水的純化過程大致分為3大步，前處理（生產(chǎn)出純...
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